基本情報

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廣瀬 文彦

HIROSE Fumihiko


職名

教授

研究室FAX

0238-26-3299

ホームページ

http://fhirose.yz.yamagata-u.ac.jp

専門分野(科研費分類) 【 表示 / 非表示

  • 薄膜・表面界面物性

  • プラズマエレクトロニクス

  • ナノ材料工学

  • 電子デバイス・電子機器

出身大学 【 表示 / 非表示

  • 東北大学  電気通信学部  電子工学科

    1987年03月,卒業

出身大学院 【 表示 / 非表示

  • 東北大学  工学研究科  電子工学専攻

    博士課程,1992年03月,修了

取得学位 【 表示 / 非表示

  • 博士(工学),東北大学,1992年03月

所属学会・委員会 【 表示 / 非表示

  • 応用物理学会

  • 電気学会

  • American Vacuum Society

  • The Electrochemical Society

  • 電子情報通信学会

 

研究テーマ 【 表示 / 非表示

  • 高速半導体デバイスの研究
    高機能光触媒膜
    低コスト太陽電池の研究
    室温原子層堆積法の開発研究

研究経歴 【 表示 / 非表示

  • 室温原子層堆積法の深化と応用,2010年04月 ~ 継続中

    原子層堆積 酸化物 ナノテクノロジー

  • 低コスト太陽電池製造方法の研究,2010年04月 ~ 継続中

    有機太陽電池 色素増感太陽電池

  • 脂質二分子膜チャネルを活用した新規バイオデバイスの研究,2015年04月 ~ 2020年03月

    細胞膜 脂質 2Dチャネル

論文 【 表示 / 非表示

  • Room-Temperature Atomic Layer Deposition of Aluminum Silicate and its Application in Dye-sensitized Solar Cells,Journal of Vacuum Science and Technology A,36 01A106,2018年01月

    共著

  • 室温原子層堆積法とその応用,応用物理,86 796-800,2017年08月

    単著

  • Room temperature atomic layer deposition of TiO2 on gold nanoparticles,Journal of Vacuum Science and Technology A,35 01b121,2017年01月

    共著

  • Room-temperature atomic layer deposition of ZrO2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argon,Applied Surface Science,387 497-502,2016年06月

    共著

  • Growth kinetics of temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using trimethylgallium and remote-plasma-excited NH3,Applied Surface Science,357 1920-1927,2015年09月

    共著

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学会・委員会等活動 【 表示 / 非表示

  • 電子情報通信学会,電子部品材料研究専門委員会委員長,2016年06月 ~ 継続中

相談に応じられる分野 【 表示 / 非表示

 

おすすめURL 【 表示 / 非表示